Comparative Study on the Quality of Microcrystalline and Epitaxial Silicon Films Produced by PECVD Using Identical SiF4 Based Process Conditions - Département de physique Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials Année : 2021

Comparative Study on the Quality of Microcrystalline and Epitaxial Silicon Films Produced by PECVD Using Identical SiF4 Based Process Conditions

Mario Moreno
Arturo Ponce
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1139264
Arturo Galindo
Eduardo Ortega
Alfredo Morales
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1139266
Javier Flores
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1139267
Roberto Ambrosio
Alfonso Torres
Luis Hernandez
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1117970
Hector Vazquez-Leal
Gilles Patriarche
Pere Roca I Cabarrocas
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 851966
Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces [Palaiseau]

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Biotechnologie
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Soumis le : mercredi 24 novembre 2021-17:57:21

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:24

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hal-03447659 , version 1 (24-11-2021)

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Mario Moreno, Arturo Ponce, Arturo Galindo, Eduardo Ortega, Alfredo Morales, et al.. Comparative Study on the Quality of Microcrystalline and Epitaxial Silicon Films Produced by PECVD Using Identical SiF4 Based Process Conditions. Materials, 2021, 14 (22), pp.6947. ⟨10.3390/ma14226947⟩. ⟨hal-03447659⟩

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